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真空誘導溶解炉 VIM-VIDP

真空誘導溶解炉 VIM-VIDP
製造:ALD Vacuum Technologies GmbH[ドイツ]

最大30tonまでの設備実績があります。
特にVIDP型は、溶解炉体と真空チャンバーが一体となっており内容積を最小に出来るので真空引き時間が短いのみならず、実行真空度を上げる事に寄与し、更に通常のVIMに比べ設置面積が小さくできます。

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VIDPは炉体と誘導コイルが一体となったコンパクトな構造で、溶解チャンバーの容積は従来のチャンバー型VIMの約10分の1。

真空誘導溶解炉 VIM-VIDP

従来のチャンバー型VIMに比べて設置スペースが小さい。
電源ケーブルがチャンバーの外にあり、スプラッシュによる損傷が発生しない。
電源ケーブルの着脱もチャンバー外側で出来る。
炉体交換時間がきわめて短い。
ラウンダーにスラグバリアー、セラミックフィルターを設置することにより、介在物除去が可能で清浄な鋼の製造ができる。

真空誘導溶解炉 VIM-VIDP真空誘導溶解炉 VIM-VIDP

3相電磁誘導攪拌装置(オプション)により、溶綱の均一な攪拌が可能。

真空誘導溶解炉 VIM-VIDP真空誘導溶解炉 VIM-VIDP
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