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フラッシュランプアニーリング装置 / FLA
| 製造：DTF Technology GmbH［ドイツ］ |
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独DTF社のフラッシュランプアニーリング装置は、コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。
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特長
非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ－リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。
・ CIS、CIGS等のソーラーセル（フレキシブル、ガラス基板等）のヘテロエピレーヤ－の膜質向上
・ ITO等の透明導電性酸化膜の改質（フレキシブル、ガラス基板等）
・ a-Si、Poly Siの結晶性の向上
・ インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニ-リング処理
・ Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成
・ ローカルメルティング-再結晶化／FLASiC(SiC on Si)
・ ドーパントの活性化（SiC/GaAs） ウルトラシャロージャンクション（Si）
適用
・ ランプアニーリング
・ アニール
・ アニーリング装置
| お問合せ先 | 情報部門 |
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| TEL：03-5472-1721 FAX：03-5472-1720 |
