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その他/成膜

複合型アークイオンプレーティング装置

製造:ISYS, Inc. / 韓国

韓国ISYS社製のスパッタ、HCD、アークイオンの三ソースをひとつのチャンバー内に搭載した複合型イオンプレーティング装置を提案致します。

製品の特長

  • ・スパッタ成膜用、アークイオン成膜用の前処理として、イオン化率90%以上のホロカソード(HCD)でのエッジング/ボンバーディングが可能。それにより高密着度、高表面平滑度を実現 【標準】
    ・ワンチャンバーに、ホロカソード(HCD)、アークイオンガン、スパッタガンの3ソースを搭載可能且つ、それぞれで独立成膜可能な為、開発機に最適 【オプション】
    ・基板用バイアス電源として、DC電源とRF電源を切り替えられる為、DLCのコーティングにも対応可能【オプション】
    ・完全フルオートソフトにより、ボタンひとつで完全自動生産。完了時アラーム通知。もちろんマニュアル操作も可能。タイマー機能の搭載も可能【オプション】
    ・貴社の要求仕様に応じ、チャンバーサイズ、ソース数、バッチ式、インライン式等を個別設計可能
    ・他社製装置の50-80%の設備投資で導入可能

  • 工具、刃物、かみそり、金型等へのハードコーティング。意匠鋼板等への装飾コーティング。

  • ・IEGD(Ion Enhanced Glow Discharge) 方式の採択で高界面密着力
    ・高い薄膜密着率 Arc > Sputter > E/B
    ・HCDにより、90 %以上のイオン化率
    ・高エネルギーのイオン蒸着 (60-100eV)

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