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超精密電子ビーム真空蒸着装置

超精密電子ビーム真空蒸着装置
製造:SNTEK Co., LTD[韓国]

韓国SNTEK社の超精密電子ビーム真空蒸着システムは、バッチ式の生産設備で精密線幅を要求するPower IC、 LEDデバイス、 MEMSなどの薄膜蒸着及びリフトオフ工程に使用します。

   

特長

・ 基板 :  シリコン、サファイア等
・ サイズ・枚数:  最大 6インチ*12枚
・ 到達真空度 :  1X10-6 Torr (30分以内)
・ 基板加熱温度:  最大200℃
・ 自転、公転制御により均一な成膜
・ ターゲット :  金属または合金、25ccるつぼ×6個

適用

Power IC、LEDデバイス、MEMS

仕様

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お問合せ先 情報精密機器部門
  TEL:03-5472-1721 FAX:03-5472-1720
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