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光学用原子層堆積装置  (プラズマALD装置) / 従来のALDの4倍~10倍生産性の高いプラズマALDをご提案致します。

光学用原子層堆積装置  (プラズマALD装置)
製造:Beneq社[フィンランド]

従来のALD装置では不可能であったプラズマを使用したバッチ式ロータリーALD装置の開発に成功致しました。従来のALD装置より4倍~10倍のハイスループットを達成致しました。

メーカーサイト カタログ(PDF)

特徴

・プラズマにて低温成膜がバッチ式で対応可能です。
・200㎜までのウェハを10枚をバッチ処理致します。
・300㎜以上の大面積にスケールアップが可能。
・従来のALDより4倍~10倍高速で成膜が可能です。

適用

リチウムイオンバッテリー、反射防止膜、、絶縁膜、ハイバリア膜、パッシベーション膜、High-K材料、マイクロ流体デバイス等々

プロトタイプ装置でのデモ成膜が可能です。

200mmウェハが対応可能なプロトタイプ装置です。
お問合せ先 情報精密機器部門
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