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オゾン水製造装置 OZWシリーズ

オゾン水製造装置 OZWシリーズ
製造:株式会社荏原製作所[日本]

荏原のオゾン水製造装置はテフロン製溶解膜、クリーンかつ高濃度オゾナイザ発生器及びノンパーティクルポンプを組み合わせることにより、次世代ウェットプロセス対応のクリーンオゾン水を連続供給できる装置です。オゾン水は機能水の一つですが多目的用途に注目されています。

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特長

・高濃度・大容量 のオゾン水
濃度3~30mg/LasO3のオゾン水を造水量 0.3~1.5m3/h(5~25L/min)で連続供給することが可能です。濃度、水量とも使用条件により変更することができます。
・不純物の少ないオゾン水
当社独自のクリーンオゾナイザ、ノンパーティクルポンプの採用により不純物の発生を極力無くしました。更にはテフロン製溶解膜を介してオゾンガスを超純水に拡散溶解することにより、TOC、金属不純物などの混入を極力抑えました。
・濃度・流量 の安定性が優れている。
紫外線吸収式濃度計によりオゾン水濃度をオン・ラインで計測してフィードバック制御によりオゾンガスの発生量を最適に調整するため、安定したオゾン水濃度を保つことが出来ます。インバータ制御方式の無段階可変速ノンパーティクルポンプを採用することにより、入口純水圧力の変動、及び洗浄装置とオゾン水製造装置との設置位 置に高低差がある場合でも安定したオゾン水の供給が可能です。
・操作の容易性、安全性、信頼性を備えた装置
洗浄装置と組み合わせて運転できるよう、連動運転信号、インターロック信号回路が組み込まれており、装置の機器もメンテナンスの容易な構成となっております。また、異常発生時には安全に装置を停止するための安全回路も組み込まれております。

仕様

型式 処理水量範囲
(L/min)
性能
濃度(ppm) 流量(L/min)
OZW05M1 3~10 15 5
OZW20M1 10~25 8 20
OZW30H2 25~40 10 30
OZW60WH4 40~60 10 60
OZW05WF2-C 3~8 60 5
OZW20H2-C 10~25 20 20
OZW20FF4-C 5~15 60 10
OZW20WH4-C 10~25 30 20
OZW30WH4-C 25~40 25 30

※上記以外の仕様、又は、炭酸水、水素水などその他機能水製造装置に関しましては、お問い合わせ下さい。

フローシート

オゾン水製造装置 OZWシリーズ
お問合せ先 情報精密機器部門
  TEL:03-5472-1721 FAX:03-5472-1720
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