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製品

成膜/表面処理

フラッシュランプアニーリング装置

製造:DTF Technology GmbH / ドイツ

独DTF社のフラッシュランプアニーリング装置は、コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。

製品の特長

  • 非常に短いパルス(マイクロ/ミリ秒レベル)のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ-リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。

    ・ CIS、CIGS等のソーラーセル(フレキシブル、ガラス基板等)のヘテロエピレーヤ-の膜質向上  
    ・ ITO等の透明導電性酸化膜の改質(フレキシブル、ガラス基板等)
    ・ a-Si、Poly Siの結晶性の向上
    ・ インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニ-リング処理
    ・ Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成
    ・ ローカルメルティング-再結晶化/FLASiC(SiC on Si)
    ・ ドーパントの活性化(SiC/GaAs) ウルトラシャロージャンクション(Si)

製品の適用例

・ ランプアニーリング
・ アニール
・ アニーリング装置

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