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半導体・FPD・有機EL製造関連装置・部材

半導体・FPD・有機EL等の製造装置や周辺機器、部材をご紹介しています。

三次元形状測定機

三次元形状測定機

韓国SNU Precision社の三次元形状測定機は、白色汗渉型の測定機です。段差や突起物の形状・高さなど表面形状を0.1nmの分解能にて測定します。

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ガラスコーター・ウェブコーター

ガラスコーター・ウェブコーター

ラトビアSidrabe社は真空成膜装置のメーカーでユニークなプロセス技術を伴った装置を製造致しております。多肢にわたるアプリケーション装置を提案致します。

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薄膜封止装置

薄膜封止装置

韓国SNU社の薄膜封止装置を提案致します。新しいコンセプトを用いた本装置を使用することで、高ガスバリア性が得られ、薄く、フレキシブルなデバイスを製造することが可能となります。

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第5世代向け有機層蒸着装置

第5世代向け有機層蒸着装置

韓国SNU社の第5世代向け有機層及びアルミ電極層の蒸着装置を提案いたします。

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非接触表面抵抗測定器

非接触表面抵抗測定器 / インライン対応可能、表面抵抗値の異方性を測定可能です。

独Nagy社の非接触表面抵抗測定器を提案致します。
基板上に成膜された導電膜の抵抗値を非接触、オンラインで測定します。

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原子層堆積装置(ALD装置)

原子層堆積装置(ALD装置) / 開発機から量産機まで対応致します。

フィンランドBeneq社の原子堆積装置を提案致します。
3Dを始め、様々な形状の基板に均一でピンホールフリーの耐腐食膜、ガスバリア膜、ゲート酸化膜など機能性薄膜を成膜することができます。

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複合型アークイオンプレーティング装置

複合型アークイオンプレーティング装置

韓国ISYS社製のスパッタ、HCD、アークイオンの三ソースをひとつのチャンバー内に搭載した複合型イオンプレーティング装置を提案致します。

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イオンミルトリミング装置

イオンミルトリミング装置

米AMS社のSAW, BAWフィルタ、その他のアプリケーションで使用されるトリミング装置。独自に開発した独特のイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。R&D機から量産タイプまで、使用用途に応じた装置構成をご提案致します。

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CMPパッドコンディショナー

CMPパッドコンディショナー

米Morgan Advanced Ceramics社のCMPプロセスで使用する表面がダイアモンドで覆われた独特の構造のパッドコンディショナーを提案致します。

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薬液ヒータ

薬液ヒータ

半導体、液晶業界のプロセスに欠かせない薬液用ヒーターです。接液部は全てPFAの為不純物の溶出やパーティクルの発生がありません。縦置き型、横置き型が選択可能で各種ヒーター容量を取り揃えております。

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超純水ヒータ

超純水ヒータ

半導体製造プロセス向け超純水ヒーターです。接液部は全てPFAの為不純物の溶出やパーティクルの発生がありません。高熱効率、純水最高温度95℃が特徴です。

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エアゾール式電子材料プリント装置

エアゾール式電子材料プリント装置

M3Dエアゾールジェット技術は通常のインクジェットやスクリーン印刷と比較して
マスクやレジストを使用せず、微細のプリントを低温で行うことができます。
高速スプレーによるプリント方式なので、基材との距離を5mmまで離すことが
できます。

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オゾン水製造装置 OZWシリーズ

オゾン水製造装置 OZWシリーズ

荏原のオゾン水製造装置はテフロン製溶解膜、クリーンかつ高濃度オゾナイザ発生器及びノンパーティクルポンプを組み合わせることにより、次世代ウェットプロセス対応のクリーンオゾン水を連続供給できる装置です。オゾン水は機能水の一つですが多目的用途に注目されています。

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超高濃度クリーンオゾナイザ OZCシリーズ

超高濃度クリーンオゾナイザ OZCシリーズ

放電原理によるオゾンガスの発生装置です。
無声放電と沿面放電の複合放電により超高濃度のオゾンを生成します。

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ピュアウォータージェットポンプ PJシリーズ

ピュアウォータージェットポンプ PJシリーズ

PJシリーズは超純水による枚葉式ウェーハジェット洗浄を対象とした高圧プランジャポンプです。ポンプ内面 に電解研磨を施す事より、表面が清浄に保たれます。また、簡潔な構造により、超純水に触れる部分をできるだけ少なくするとともに、シール部から発生するパーティクルがジェット水に混入しないように工夫されています。

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アンモニアガスモニタ EAMシリーズ

アンモニアガスモニタ EAMシリーズ

本装置は空気中のアンモニア(NH3)ガス濃度を測定するものです。 空気中のアンモニアが検知テープに接触するとアンモニア濃度に応じた発色反応が起こり、その色変化率を検出して、アンモニアガス濃度に変換します。

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大型鍛造製品

大型鍛造製品

FOMASグループは、鍛造品の世界的トップメーカであり、イタリア、フランス、インド、中国等の25ヶ国以上に工場の拠点を持ち、世界中に供給しております。職人達が、非常に複雑な形の鍛造品を非常に美しく高品質に製作いたします。

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機能水製造装置

機能水製造装置

半導体、液晶製造プロセスで要求されるクリーンな機能水(脱気水、水素水、炭酸水、窒素水、オゾン水等)の製造装置です。ご指定により単独又は各機種の組み合わせが可能です。
オゾン水製造装置は個別のご紹介頁をご参照ください。

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ウェットエッチング装置

ウェットエッチング装置

米国Wafab International社の半導体、太陽電池向けのウェットエッチング(テクスチャリング)装置です。全世界で1,000台以上の納入実績があり、R&D向け手動装置から生産ライン用完全自動装置まで、ご要望に応じたフレキシブルな対応が可能です。

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インクジェット装置

インクジェット装置 / "Tri - JET"シリーズ

産業用インクジェットとは、インクジェット技術を産業用分野に応用し、従来の版やマスクを使用したアナログ的方法(スクリーン印刷など)で行っていた印刷やパターニングなどをインクジェット方式で代替してコスト削減や環境負荷低減を実現しようというものです。

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イオンエネルギー測定器

イオンエネルギー測定器

真空下でのエッチングやスパッタ、成膜プロセス中のイオンエネルギーの測定ができます。検出プローブは電極/基板ホルダーに取付け可能なので、実プロセスと同条件でプラズマの最適化が行えます。各種のバイアス条件(フローティング、DC、パルスDC、RF)下で測定ができます。

プラズマ放電中のプロセス内で以下の測定が可能です。
- イオンエネルギー分布
- イオンフラックス
- ネガティブイオン
- 温度
- バイアス電圧

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レーザー加工装置

レーザー加工装置

韓国Korea Laser Tech社が製造する各種レーザー加工装置です。OLED、液晶ディスプレイ、モバイル用タッチパネルスクリーンの加工用途で多くの生産装置納入実績がございます。ご要望に応じたフレキシブルな装置提案が可能です。

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フラッシュランプアニーリング装置

フラッシュランプアニーリング装置 / FLA

独DTF社のフラッシュランプアニーリング装置は、コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。

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FPD製造工程洗浄剤

FPD製造工程洗浄剤 / 太陽電池、建築ガラスなど各種産業向け洗浄剤

スイスBorer社のFPD製造工程向け各種洗浄剤は、世界各国の主要メーカーに実績があり、高い評価を得ております。各工程における多品種の洗浄剤を取り揃え最適な洗浄が可能です。FPD業界にて30年以上の経験から必要とされる技術の最適化が成されております。Borer社は、TN、STD、TFT、PDP、OLED等の各種FPDに洗浄剤を提案致します。また、太陽電池製造工程向けや建築ガラスなどの各種産業向け洗浄剤も取り揃えております。

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リチウムイオン電池製造工程用各種組立装置

リチウムイオン電池製造工程用各種組立装置

mPLUS社は、韓国にてリチウムイオン電池の製造工程に使用される多種多様な組立装置を販売しております。

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大気圧用ラングミュアプローブ

大気圧用ラングミュアプローブ / 大気圧プラズマが測定可能なラングミュアプローブです。

大気圧プラズマ、常圧プラズマ、熱プラズマの以下パラメータが測定できます。
-プラズマ密度
-イオンカレント密度
-電子温度
-浮遊電位

世界で初めて大気圧で使用可能なラングミュアプローブの開発に成功しました。

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スロットダイコーター

スロットダイコーター / パテント取得の革新的なスロットダイコーターです。

パテント取得の最先端技術で均一の薄膜をコーティング致します。
量産機へのスケールアップが可能です。
ガラス、樹脂、金属フォイル、ウエハ等のリジッド&フィレキシブル基材に対応。 
FPD、OLED、PV、フィレキシブルフィルム、光学フィルム等多彩な用途にも対応。 

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大型基板専用 ガラス洗浄装置

大型基板専用 ガラス洗浄装置 / Billco社はガラス製造に関する、多種多様な装置を提供している企業です。

Billco社は、ガラス基板専用の洗浄、乾燥装置を提案致します。通常タイプの装置以外にも、ガラスを垂直にして洗浄する装置、小~中型ガラス基板専用の装置等、各種揃えております。

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ガラス基板専用 カッティング装置

ガラス基板専用 カッティング装置 / Billco社はガラス製造に関する、多種多様な装置を提供している企業です。

Billco社は、ガラス基板専用のカッティング装置を提案致します。複数カッティング装置がありますので、様々なサイズのガラスに対応可能です。

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ガラス欠陥検査装置

ガラス欠陥検査装置

Dr. Schenkは、様々なガラスの欠陥を自動で認識する、豊富な実績のガラス用欠陥検査装置を提供致します。

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RtoR 原子層堆積装置(ALD装置) 

RtoR 原子層堆積装置(ALD装置) 

Beneq社RtoR原子層堆積装置(ALD装置)は、フレキシブルエレクトロニクスの高い要求レベルに対応する高ガスバリア性を低コスト、単層膜で達成することが可能です。

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反応性リアクティブスパッタ向けPEM(プラズマエミッションモニター)、SOL.rpc

反応性リアクティブスパッタ向けPEM(プラズマエミッションモニター)、SOL.rpc / 反応性リアクティブスパッタプロセス中のプラズマの色、または電圧をモニタリングし、安定したスパッタ状態に導きます。

スパッタ装置内のプラズマの光の色(波長)をモニタリングし、常に安定した色になる様、マスフローコントローラー(MFC)に信号を送り、プロセスガスを最適な流量に制御するクローズドループシステムです。またプラズマ光をモニタリングする代わりに、カソード電圧をモニタリングすることで、マスフローコントローラー(MFC)に信号を送り、プロセスガスを最適な流量に制御するクローズドループシステムを組む事も可能です。
この技術により、特にリアクティブスパッタ(反応性スパッタ)プロセスにおいて、最適かつ安定したスパッタ状態に導きます。

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レーザー式フィルムカッティング装置

レーザー式フィルムカッティング装置 / 高速プロセス用 フィルムカッティング専用機

各種のフィルム材料を専用のレーザーチューニングにてシャープな切断面でカッティングができます。

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卓上スパッタ装置

卓上スパッタ装置 / 研究開発向けの卓上のスパッタ装置です

研究開発向けの小型のスパッタ装置です。
金属、金属炭化物、金属酸化物等の成膜が可能です。
RF電源からDC電源まで搭載可能で、リアクティブスパッタも可能です(オプション)。

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常圧エアゾール式コーター

常圧エアゾール式コーター / 薄膜を均一に高速コーティング、量産機へのスケールアップが可能

TCO(透明導電酸化)膜の量産向けコーティングに開発された独自技術により、常温で薄い液フィルムのコーティングが可能  

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高周波計測器 RF計測器

高周波計測器 RF計測器 / チャンバー内のRFを高精度に測定が可能

Octiv Suiteは、RFの以下のパラメータを測定可能です。

・電圧
・電流
・フェーズ
・ハーモニクス
・インピーダンス
・イオンフラックス
・Waveform reconstruction

・1%の精度で測定が可能。
・1μsの時間分解能で測定が可能
・単周波数のみでなく、複数の周波数が測定可能(Ocye Poly Octiv Suite)
・イオンフラックスが測定可能 (Octiv Suite)

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ラングミュアプローブ

ラングミュアプローブ / プラズマを、正確に測定できる画期的な測定器です。

以下のパラメータが測定可能です。

浮遊電位
プラズマ電位
プラズマ密度
イオン電流密度
電子温度
電子エネルギー分布関数


測定機能
①時間平均測定
②時間分解測定
③タイムトレンド測定

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プラズマクリーナー

プラズマクリーナー / ~真空チャンバーと試料を同時にクリーニング致します。

電子顕微鏡や真空チャンバーの試料観察にて、コンタミを確実に除去致します。

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真空用オゾン除害器

真空用オゾン除害器

真空下で使用できる高効率オゾン除害器です。従来製品に比べ、分解効率が数倍高いマテリアルを開発したことにより、処理能力が非常に高く、発塵の無いオゾン除害器となっております。

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光学用原子層堆積装置  (プラズマALD装置)

光学用原子層堆積装置  (プラズマALD装置) / 従来のALDの4倍~10倍生産性の高いプラズマALDをご提案致します。

従来のALD装置では不可能であったプラズマを使用したバッチ式ロータリーALD装置の開発に成功致しました。従来のALD装置より4倍~10倍のハイスループットを達成致しました。

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大面積用原子層堆積装置  (ALD装置)

大面積用原子層堆積装置  (ALD装置) / 従来のALDの常識を覆す驚異的なスループットをご提案致します。

世界初のシートtoシート ALD装置の開発を致しました。大面積基板をシートからシートへ連続して移動させることにより、従来のALDの常識を完全に覆す驚異的なスループットを達成した革新的なALD装置です。

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お問合せ先 情報精密機器部門
  TEL:03-5472-1721 FAX:03-5472-1720
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