製品の特長

• 

  装置の特徴
  ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス）
  ･装置はレシピで動作可能
  ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。

• 

  プロセスの特徴
  低温処理：オリジナルの材料特性が保持されます。
  コーティング不要：イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。
  部品の形状を尊重：追加の加工が不要です。
  精密で局所的な表面処理：プロセスの最適化が可能です。
  サンプルの電気伝導性：問いません。絶縁材料も処理可能です。
  環境：ドライプロセスなので、化学的な廃棄物はありません。
  

• 

  イオン注入した効果
  鋼材：表面硬化（ステンレス鋼で4倍）、摩擦係数の大幅な低減、驚異的な耐摩耗性。
  ステンレス316L：10µmの掘進プロファイルで400から1800 Hvに増加、摩擦係数が1/2に、ピッチング耐性が10倍に向上。
  アルミニウム：表面硬化（7倍）、摩擦係数の大幅な低減、高い腐食抵抗性。
  銅および銅合金：酸化と摩耗に対する強力な耐性、表面硬化（4倍）。
  金：表面硬化（7倍）、密度の増加、電気めっき層の多孔性の大幅な低減。
  チタン：表面硬化（7倍）、摩擦係数の低減。
  マグネシウム：表面硬化（3倍）、クラック耐性と高い腐食抵抗性。
  プラチナ：表面ナノ構造化（触媒特性）、摩擦係数の低減。
  ポリマー（PC、PEEK、PMMA、PP、PUなど）：硬度の増加（10倍）と帯電防止特性の生成。
  エラストマー（NR、CR、EPDMなど）：硬度の増加と摩擦係数の低減。