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RtoR 原子層堆積装置(ALD装置) 

RtoR 原子層堆積装置(ALD装置) 
製造:Beneq社[フィンランド]

Beneq社RtoR原子層堆積装置(ALD装置)は、フレキシブルエレクトロニクスの高い要求レベルに対応する高ガスバリア性を低コスト、単層膜で達成することが可能です。

メーカーサイト カタログ(PDF)

特長

OLED(ディスプレイ、照明)、フレキシブル太陽電池(CIGS、OPV)への直接封止、フィルムへの高ガスバリア膜付与といったアプリケーションに有効な技術です。低コスト材料、低コストで稼働します。高透過率、無機膜、単層によるウルトラバリア(例;Al2O3、TiO2)や、様々な基板に有効です。(例;有機膜、PET、PEN)

適用

【適用】
フィルムへのバリア膜、OLED(ディスプレイ・照明)、フレキシブル太陽電池(CIGS・OPV)の直接封止
 
【装置ラインナップ】
[R&D向けTFS-200R]
○RtoR ALD向けのプロセス開発、異なる基板でのバリア性確認、スケールアップ性の確認に最適なR&D装置です。
 
[RtoR ALD装置 WCS600]
○RtoR ALDプロセス開発、パイロット生産に最適です。
 以下の動画をご参照ください。

お問合せ先 情報精密機器部門
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