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製造：NANO-MASTER, Inc.

宇宙空間を模擬した高真空および極低温〜高温環境を再現し、デバイスや材料の信頼性評価を行う熱真空試験装置です。小型衛星、宇宙用電子機器、各種部品の熱サイクル試験・真空耐久試験に対応します。

製造：Forge nano Inc. / 米国

ForgeNano社の「TEPHRAシリーズ」は、200mm以下のウェハに対応した枚葉式ALD（原子層堆積）装置です。CRISP™プロセスにより、プラズマ不要で低温・高均一な成膜を実現し、最大25:1の高アスペクト比構造にも対応。独自の高速ドージングバブルと前駆体利用効率90％により、バッチ装置並みのスループットと低コスト運転を両立します。TSV、TGVプロセス、MEMS、マイクロLED、先端パッケージングなど幅広い用途に最適です。

製造：NOVA FABRICA LTD

■プラズマ発光モニター（PEM）
クローズドループ制御により次のプロセスコントロールが
できます。
〇高速高精度で反応性ガス流量の制御
〇複数の膜の高速スパッタ成膜
〇ドーピングコントロール

■発光分光分析装置（OES）
リアルタイムで以下を含むプラズマの特性
をプロセスへ影響なく分析できます。
〇プラズマプロセスの特性
　電子温度(Te)、電子密度(Ne)、EEDF、EEPF
〇プラズマプロセス診断、トラブルシューティング"

製造：Heeger Materials Inc.

ハイエントロピー合金（HEA）は、複数の主要元素をほぼ等量または有意な割合で含む革新的な金属材料であり、優れた機械的特性や高温耐性を備えています。Heeger Materials社では、高品質なハイエントロピー合金をシートインゴット、プレート、フォイル、粉末など多様な形状で取り扱っており、特定の用途や研究ニーズに応じて、元素組成や配合比率のカスタマイズも可能です。産業用途から先端材料開発まで、対応可能です。

製造：Das Nano SL / スペイン

Onyxは、テラヘルツ波技術を活用した非接触・非破壊の電気特性評価システムで、材料の性能を高精度で測定します。従来の接触型や破壊的な測定方法に代わり、グラフェン、2D材料、半導体、バッテリーなど、さまざまな先進材料の特性を損傷なく評価することができます。Onyxは、0.5 mm²から数平方メートルの広範囲にわたり、サンプルの詳細な電気的特性を高速でマッピングし、研究から産業規模の製造へとスムーズに移行をサポートします。これにより、材料科学の進展を加速し、製品の性能や効率の向上に寄与します。

製造：INTEVAC, INC./米国

インテバック社は、最新のコーティングシステムを市場に投入します。中小規模の基板向けのコンパクトでコスト効率の高いコーティングソリューションです。 HDD市場をリードする 200Lean© を世界にもたらした材料科学の専門知識から生まれたこの革新的な技術開発は、2D および 3D ガラス基板を大量に連続でコーティングできるコンパクトな機械であり、多層膜と厚膜をインラインプロセスで作成します。インテバック社独自の特許取得済みのプラズマ制御技術、高速出力と高速処理時間により、高速スパッタリングが可能になり、低コストで耐摩耗、反射防止、高硬度のコーティングが得られます。 TRIO™ は、将来のテクノロジーに必要な拡張が可能なモジュール方式となっています。

製造：IONTRA / 米国

充電方式を改善するマイクロコントローラーを開発し
電池寿命の最大化 ・ 充電時間の短縮を実現します。

製造：InProcess Instruments B.V. / オランダ

世界で初めてナノ粒子の連続測定を可能にした装置で、研究から生産までプロセスの評価・管理にご使用いただければ飛躍的に品質管理・生産効率を向上できます。

分級機構を内蔵した竪型微粉砕機です。
粉砕ロータ及び分級ローターの回転数はそれぞれ個別設定が
可能であり、製品粒度重視から処理能力重視まで任意の運転条件
を無段階で調整できます。 試験場には除湿冷風装置も
常設されており、熱変性にシビアな原料にも適応します。
セラミックス仕様との併用により粉砕粒度だけでなく、
コンタミや熱履歴など最終製品評価に近い試験データの
採取が可能となります。

製造：Forge Nano, Inc. / 米国

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な
用途に活用できます。
スケールアップした量産機もご提案できます。