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製造：Forge nano Inc. / 米国

ForgeNano社の「TEPHRAシリーズ」は、200mm以下のウェハに対応した枚葉式ALD（原子層堆積）装置です。CRISP™プロセスにより、プラズマ不要で低温・高均一な成膜を実現し、最大25:1の高アスペクト比構造にも対応。独自の高速ドージングバブルと前駆体利用効率90％により、バッチ装置並みのスループットと低コスト運転を両立します。TSV、TGVプロセス、MEMS、マイクロLED、先端パッケージングなど幅広い用途に最適です。

製造：NOVA FABRICA LTD

■プラズマ発光モニター（PEM）
クローズドループ制御により次のプロセスコントロールが
できます。
〇高速高精度で反応性ガス流量の制御
〇複数の膜の高速スパッタ成膜
〇ドーピングコントロール

■発光分光分析装置（OES）
リアルタイムで以下を含むプラズマの特性
をプロセスへ影響なく分析できます。
〇プラズマプロセスの特性
　電子温度(Te)、電子密度(Ne)、EEDF、EEPF
〇プラズマプロセス診断、トラブルシューティング"

製造：Heeger Materials Inc.

ハイエントロピー合金（HEA）は、複数の主要元素をほぼ等量または有意な割合で含む革新的な金属材料であり、優れた機械的特性や高温耐性を備えています。Heeger Materials社では、高品質なハイエントロピー合金をシートインゴット、プレート、フォイル、粉末など多様な形状で取り扱っており、特定の用途や研究ニーズに応じて、元素組成や配合比率のカスタマイズも可能です。産業用途から先端材料開発まで、対応可能です。

製造：INTEVAC, INC./米国

インテバック社は、最新のコーティングシステムを市場に投入します。中小規模の基板向けのコンパクトでコスト効率の高いコーティングソリューションです。 HDD市場をリードする 200Lean© を世界にもたらした材料科学の専門知識から生まれたこの革新的な技術開発は、2D および 3D ガラス基板を大量に連続でコーティングできるコンパクトな機械であり、多層膜と厚膜をインラインプロセスで作成します。インテバック社独自の特許取得済みのプラズマ制御技術、高速出力と高速処理時間により、高速スパッタリングが可能になり、低コストで耐摩耗、反射防止、高硬度のコーティングが得られます。 TRIO™ は、将来のテクノロジーに必要な拡張が可能なモジュール方式となっています。

製造：Forge Nano, Inc. / 米国

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な
用途に活用できます。
スケールアップした量産機もご提案できます。

製造：Fibro System AB / スウェーデン

平らなサンプルの上に本体を置くだけで接触角を測定できサンプルカットの必要がありません。動的・静的接触角測定、前進後退接触角、表面自由エネルギー計算が可能。大型ガラス基板やフィルムなどの洗浄用途での実績多数でPGシリーズ計300台以上の国内実績があり、信頼性も抜群です。

ポリパラキシレンは、生体適合性、耐薬品性、絶縁性、光学・ガスバリア性など、さまざまな機能を持つ高性能樹脂です。
装置の製造だけでなく、プロセスに関する豊富なノウハウも提供可能です。

製造：Impedans / アイルランド

以下のパラメータが測定可能です。

浮遊電位
プラズマ電位
プラズマ密度
イオン電流密度
電子温度
電子エネルギー分布関数


測定機能
①時間平均測定
②時間分解測定
③タイムトレンド測定

製造：Impedans / アイルランド

Octiv Suiteは、RFの以下のパラメータを測定可能です。

・電圧
・電流
・フェーズ
・ハーモニクス
・インピーダンス
・イオンフラックス
・Waveform reconstruction

・１％の精度で測定が可能。
・1μsの時間分解能で測定が可能
・単周波数のみでなく、複数の周波数が測定可能（Ocye Poly Octiv Suite）
・イオンフラックスが測定可能　（Octiv Suite）

製造：Sensory Analytics / 米国

独自の光学干渉を認識する技術を用いて、金属コイル、金属コンテナ上の透明膜、不透明膜、ウェット膜、ドライ膜の厚み、重量を非接触で測定します。