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製造：Forge nano Inc. / 米国

ForgeNano社の「TEPHRAシリーズ」は、200mm以下のウェハに対応した枚葉式ALD（原子層堆積）装置です。CRISP™プロセスにより、プラズマ不要で低温・高均一な成膜を実現し、最大25:1の高アスペクト比構造にも対応。独自の高速ドージングバブルと前駆体利用効率90％により、バッチ装置並みのスループットと低コスト運転を両立します。TSV、TGVプロセス、MEMS、マイクロLED、先端パッケージングなど幅広い用途に最適です。

製造：NOVA FABRICA LTD

■プラズマ発光モニター（PEM）
クローズドループ制御により次のプロセスコントロールが
できます。
〇高速高精度で反応性ガス流量の制御
〇複数の膜の高速スパッタ成膜
〇ドーピングコントロール

■発光分光分析装置（OES）
リアルタイムで以下を含むプラズマの特性
をプロセスへ影響なく分析できます。
〇プラズマプロセスの特性
　電子温度(Te)、電子密度(Ne)、EEDF、EEPF
〇プラズマプロセス診断、トラブルシューティング"

製造：IONICS SA / ベルギー

ionR2R90™ は、最大幅90mmのリール材に対応した、連続式イオン注入処理用の産業用ライン装置です。
1m/分の高速搬送下でも、高精度かつ両面への全体処理・選択処理が可能で、生産性と品質の両立を実現します。

製造：plasmotion / ドイツ

独自のプラズマ研磨プロセスでほぼ全ての金属・合金をより効率的に表面処理することができます。
プロセス時間 ： 20 - 200秒
表面粗度 ： ～ Ra 0.02μm

製造：IONICS SA/ベルギー

粉末に特化したイオン注入装置です。低真空圧下で、ionGUN 2000を使用して粉体表面へイオン注入(ion implantation)することにより、表面改質することができます。

製造：Forge Nano, Inc. / 米国

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な
用途に活用できます。
スケールアップした量産機もご提案できます。

製造：Fibro System AB / スウェーデン

平らなサンプルの上に本体を置くだけで接触角を測定できサンプルカットの必要がありません。動的・静的接触角測定、前進後退接触角、表面自由エネルギー計算が可能。大型ガラス基板やフィルムなどの洗浄用途での実績多数でPGシリーズ計300台以上の国内実績があり、信頼性も抜群です。

製造：Flynn burner / 米国

フレームプラズマ表面処理装置。フィルム、アルミ箔、ラミネート紙の前処理。均一で、プラズマ状態をコントロールされた火炎が高エネルギープラズマを発生。

製造：Flynn burner / 米国

ガス燃焼状態をモニターする為のフレームプラズマアナライザー。サンプリングされたエア・ガス混合気をアナライザー内で燃焼させ排ガス中の残酸素・残ガス濃度を測定し、指数化。

製造：Impedans / アイルランド

以下のパラメータが測定可能です。

浮遊電位
プラズマ電位
プラズマ密度
イオン電流密度
電子温度
電子エネルギー分布関数


測定機能
①時間平均測定
②時間分解測定
③タイムトレンド測定